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商品详情
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薄膜电阻的薄膜溅射工艺是高级无源元器件公认的技术，这项技术在过去几十年中已经被反复验证和改进。该技术的优势在于其准确性、可重复性和稳定性，生产的高稳定和精确的薄膜电阻器广泛应用于恶劣环境条件下的各种电子设备当中。利用光刻工艺制造熔断层可为我们提供生产精确的几何轮廓和端子间未使用的导电材料的能力。利用光刻工艺，可控制熔丝的长度和宽度，达到与溅射薄膜层厚度相同的准确度和精度。 并且目前已有数十亿片器件，每年采用这项技术批量生产的薄膜电阻器达数十亿片。
薄膜电阻具有高稳定性，低的噪音和极好的高频率性能和高阻值精度；目前常见的精度为A挡0.05%即万分之五精度、T挡0.01%万分之一精度、B挡0.1%即千分之一精度、C挡0.25%即千分之2点5精度、D挡0.5%即千分之五、F挡即1%精度等6个等级。同时精密电阻对温度系数的控制也相当惊人，常见为5ppm、10ppm、25ppm、15ppm、50ppm等。目前风华薄膜电阻主流常规温漂是25ppm，由于市场需求引起的产量的增加，25ppn薄膜电阻的价格已经和50ppm精密电阻一致，可以在同等价格下，可以为用户提供更低温漂的薄膜精密电阻产品。同时，提供5~20ppm电阻产品。
薄膜电阻的薄膜溅射工艺是高级无源元器件公认的技术，这项技术在过去几十年中已经被反复验证和改进。该技术的优势在于其准确性、可重复性和稳定性，生产的高稳定和精确的薄膜电阻器广泛应用于恶劣环境条件下的各种电子设备当中。利用光刻工艺制造熔断层可为我们提供生产精确的几何轮廓和端子间未使用的导电材料的能力。利用光刻工艺，可控制熔丝的长度和宽度，达到与溅射薄膜层厚度相同的准确度和精度。 并且目前已有数十亿片器件，每年采用这项技术批量生产的薄膜电阻器达数十亿片。
薄膜电阻具有高稳定性，低的噪音和极好的高频率性能和高阻值精度；目前常见的精度为A挡0.05%即万分之五精度、T挡0.01%万分之一精度、B挡0.1%即千分之一精度、C挡0.25%即千分之2点5精度、D挡0.5%即千分之五、F挡即1%精度等6个等级。同时精密电阻对温度系数的控制也相当惊人，常见为5ppm、10ppm、25ppm、15ppm、50ppm等。目前风华薄膜电阻主流常规温漂是25ppm，由于市场需求引起的产量的增加，25ppn薄膜电阻的价格已经和50ppm精密电阻一致，可以在同等价格下，可以为用户提供更低温漂的薄膜精密电阻产品。同时，提供5~20ppm电阻产品。
