真空高温 CVD 炉采用高温化学气相沉积的方法，在工件表面沉积各种薄膜，在半导体工业中应用非常广泛，包括沉积大面积的绝缘材料，以及大多数金属材料和金属合金材料，例如：碳化钽涂层、碳化硅涂层材料。
例如：可在石墨工件表面沉积碳化钽涂层和碳化硅涂层。

真空高温 CVD 炉适用于生产企业及各大高校材料实验室、科研院所、环保科学等领域。
设备构成
炉壳采用不锈钢材质，双层水冷结构，设有观察窗和红外测温窗、热电偶测温装置。
加热系统
设备内部安装加热器，形成薄膜沉积热场。
样品台系统
样品台可同时挂载若干工件。
测温和加热电源
1、温度控制和检测全部采用热电偶/钨铼热电偶/红外测温仪。
2、加热电源功率根据实际要求定制电源。
主要技术指标

类型	参数
功率	约150KW
加热器工作温度	≤2200℃
真空度	6.67*10-3Pa（冷态空载）
升压率	0.08pa/h

关于我们

鹏城微纳技术（沈阳）有限公司，由哈尔滨工业大学（深圳）与有多年实践经验的工程师团队共同发起创建。公司立足于技术前沿、市场前沿和产业前沿的交叉点，寻求创新yin*ling与可持续发展，解决产业的痛点和国产化难题，争取产业链的自主可控。

鹏城微纳技术（沈阳）有限公司是鹏城半导体技术（深圳）有限公司全资子公司，是半导体和泛半导体工艺和装备的设计中心和生产制造基地。

公司核心业务是微纳技术与gao*duan精密制造，具体应用领域包括半导体和泛半导体材料、工艺、装备的研发设计、生产制造、工艺技术服务及装备的升级改造，可为用户提供工艺研发和打样，可为生产企业提供生产型设备，可为科学研究提供科研设备。

公司人才团队知识结构完整，有工程师哈工大教授和博士，为核心的高水平材料研究和工艺研究团队，还有来自工业界的高级装备设计师团队，他们具有30多年的半导体材料研究、外延技术研究和半导体薄膜制备成套装备设计、生产制造的经验。

公司依托于哈尔滨工业大学（深圳），具备xian*jin的半导体研发设备平台和检测设备平台，可以在高起点开展科研工作。公司总部位于深圳市，具备半导体和泛半导体装备的研发、生产、调试以及器件的中试、生产、销售的能力。

公司团队技术储备及创新能力

1998~2002

-设计了中试型的全自动化监控的MOCVD，用于外延硅基GaN

-设计制造了聚氨酯薄膜的卷绕式镀膜机

2005

-设计制造了中国di*yi台wan*quan自主知识产权的MBE(分子束外延设备)，用于外延光电半导体材料

2007

-设计超高温CVD 和MBE，用于4H晶型SiC外延生长

-设计制造了光学级金刚石生长设备（采用热激发技术和CVD技术）

2015

-设计制造了金刚石涂层制备设备，制备了金刚石电极、微米晶和纳米晶金刚石薄膜、导电金刚石薄膜

2017

-优化Rheed设计，开始生产型MBE设计

-开始研发PSD方法外延GaN的工艺和装备

2019

-设计制造了大型热丝CVD金刚石薄膜的生产设备

2021

-鹏城半导体技术（深圳）有限公司成立

2022

-子公司鹏城微纳成立；

-热丝CVD设备、高真空磁控溅射仪、电子束蒸镀机、分子束外延与磁控溅射联用设备多套出货

-获得ISO9001质量管理体系证书

2023

-PSD方法外延GaN装备与工艺的技术攻关；

-科技型中小企业-入库编号202344030500018573；

-创新型中小企业；

-获50+项知识产权zhuan*li；

-企业信用评价3A*信用企业；/ISO三体系认证；

-子公司晶源半导体成立

2024~2026

-与jun*gong和上市头部企业合作取得突破（X 光感受板及光电器件的薄膜生长等）

-鹏城微纳子公司扩产

-TGV/TSV/TMV

-微光探测、医疗影像、复合硬质涂层

-gao*xin*ji*shu企业

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