一、技术特点

1. 双倒置磁控管设计：CCM502SHC采用独特的双倒置磁控管设计，能够有效减少磁场干扰，提高测量的稳定性和重复性。
2. 宽量程测量：其测量范围为1×10?? Torr至1 Pa（1000 mbar），能够覆盖从高真空到大气压的多种应用场景。
3. 高精度与重复性：该真空计的精度为±30%读数，重复性精度为±5%读数，确保在不同环境下的可靠测量。
4. 灵活的安装与输出：CCM502SHC支持任意方向安装，提供0-10.5V的对数线性模拟输出，便于与自动化控制系统集成。
5. 耐高温设计：其工作温度范围为5℃至55℃，烘烤温度可达150℃，适用于高温环境下的真空测量。

二、应用场景

• 半导体制造：用于真空腔体内的压力监测，确保工艺过程的稳定性和重复性。
• 真空镀膜：在镀膜过程中提供精确的真空度测量，优化薄膜沉积条件。
• 科研实验：适用于质谱分析、电子显微镜等高精度实验设备的真空测量。
• 工业炉与制冷设备：用于工业炉、建筑玻璃、冰箱和空调等设备的真空检测。

三、优势总结